molang2003 发表于 2010-4-25 17:29:05

Ta2O5的吸收问题

这段时间在做Ta2O5的工艺试验。但是做出来的效果很不理想，吸收情况特别严重，而且在单面反射测量时，在620nm以后的反射率偏大（和膜系理论设计比较）。因是初次接触这种药材，这一个礼拜摸索下来，觉得很吃力。所以，在这请教下各为大侠,对该药材因该注意那方面参数(如,冲氧量、蒸发速率......).
   我目前的工艺参数是: 冲氧后真空室压力为:2.4E-2Pa;
                  电子枪蒸镀(没有离子源)功率为:360Am;
                                          真空室温度为:   320℃;

xieyoujie 发表于 2010-6-5 04:11:06

加离子源

LIUYONGLIN 发表于 2010-6-5 13:59:22

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yangdaoqi 发表于 2010-6-5 23:55:14

有可能是膜料本身问题

526951749 发表于 2010-6-8 09:47:37

没有离子源，很难镀出没有吸收的薄膜，但是应该吸收不会很高的，是不是速率太低，建议提高点速率试试。基板温度够高了，调调氧分压

sunyan 发表于 2010-6-8 12:50:56

楼上说的挨个试试！！！！！

JZNT 发表于 2010-6-14 15:14:13

Ta2O5没有离子源也是可以的。你的速率是多少？

baron 发表于 2010-6-23 09:04:33

你的实际温度有多少??不开离子源问题不是很大,短波那边是会有点吸收

z1206l 发表于 2010-6-29 19:04:31

能否把曲线发上来。
看了曲线就一目了然了。

aleko 发表于 2010-7-28 16:04:19

试试镀完后再加问退火

jingping 发表于 2010-8-3 17:35:59

可能材料的问题SIO2确认一下

Aaron-Lee 发表于 2010-8-5 17:43:30

吸收.......1. 修倍率   2. 氧壓3. 電子槍速率
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