li007 发表于 2010-6-23 13:49:59

求助镀膜温度问题

哪位大侠知道：
我想在一种晶体上镀膜，膜层材料是二氧化硅。
但镀膜过程中的温度能控制在160度一下吗？
另外膜层的厚度对温度有影响吗，膜层厚度能做到6000nm以上吗？

就这两个问题。

先谢谢了。

zzzz 发表于 2010-6-23 14:31:30

可以
那看什么晶体了
试试就知道了

z1206l 发表于 2010-6-29 19:38:01

但镀膜过程中的温度能控制在160度一下吗？
要看基材。

另外膜层的厚度对温度有影响吗，膜层厚度能做到6000nm以上吗？
可以达到，疑惑在于 sio2为什么单层要多这么厚呢？有什么讲究吗？

li007 发表于 2010-7-1 14:18:26

但镀膜过程中的温度能控制在160度一下吗？
要看基材。

另外膜层的厚度对温度有影响吗，膜层厚度能做到6 ...
z1206l 发表于 2010-6-29 19:38 http://bbs.oecr.com/static/image/common/back.gif


基材是InGaN，厚度我是想尽量做厚一些，避免出现光的干涉现象。

1985120 发表于 2010-8-4 22:46:40

其实我想知道怎样根据基片性质设定温度啊？？？

Aaron-Lee 发表于 2010-8-5 17:32:59

鍍膜在160度以下,.........可以並建議加IAD

qqucqquc 发表于 2010-9-26 23:10:46

最好加上IAD工艺。膜层较牢。
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