没离子源应该是脱模吧,我这有膜裂一般都是离子源能量太强,可试着将第一层的速率改变下
工艺2 :试着其他材料打底,SIO2做第一层容易膜裂,我这也发生过,后改了工艺SIO2 TI3O5 SIO2 TI3O5 SIO2改为TI3O5 SIO2 TI3O5 SIO2,做镜头的AR膜完全满足
树脂材料若是镀膜请炉温最好不要超过80摄式度,镀膜前需要70度放汽3小时,解决应力把镀膜的离子源参数更改,充O2的大小也会有影响
我们用H4与SIO2搭配,离子助镀,没有膜裂。。。
5楼的达人强化用的什么药水?
有离子源助镀应该要好些,我们也做过,我们有离子源,还没有遇到这种现象
会不会镀摄像头,温度不要110℃,我们都是加温200℃开着离子源来镀的,温度不高容易掉膜也,老兄,爆裂只能说明基材的问题,基材不好不加温都爆裂,
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呵呵
这么高要求
看来我们初学者要学的真的是太多了,慢慢来吧
现在已经开始尝试自己做实验了
谢谢楼主们的指教了
加油
镀膜之前先放烘箱100度烘4小时,然后冷却两小时开始镀膜试试.我们以前就是这样做的
你的真空度是多少,材料蒸发速率,还有就是药剂也有关系,逐步改善吧
真空度,或者加AL203.最好使用离子源。还有你用H4和MGF2 试下
更改氧氣流量或鍍膜時之速率,此可有改善.