回复 RomiSu 的帖子
以前确实没做过,高手哦,你看就知道,想做这方面的,你给点意见,买设备的时候要达到什么要求才行哦
做CWDM膜层厚度大约50~60um。
要求设备状态稳定,膜层控制精度高。一般采用规整设计与非规整设计相结合,还要考虑两种膜系结合产生的dip影响,等等。国产机基本上不可能。
目前基本上都是进口镀膜机设备。
日本光驰机
美国veeco机
德国莱宝机
目前我在用进口机台做9000NM左右的窄带哈,收获很多哦
ghtzna 发表于 2011-6-8 11:40 static/image/common/back.gif
目前我在用进口机台做9000NM左右的窄带哈,收获很多哦
做过的大部分是200-1100nm以内的窄带,以后多交流!
这种使用黑玻璃就好了
黑玻璃也可以做,但是据说截止深度不够,至少需要OD4的截止度。
ghtzna 发表于 2011-6-8 15:35 static/image/common/back.gif
这种使用黑玻璃就好了
黑玻璃也可以做,但是据说截止深度不够,至少需要OD4的截止度。
RomiSu 发表于 2011-6-7 17:02 static/image/common/back.gif
做CWDM膜层厚度大约50~60um。
要求设备状态稳定,膜层控制精度高。一般采用规整设计与非规整设计相结合, ...
谢谢,只是先做一个前期评估,多谢宝贵意见。
sery1234 发表于 2011-6-9 08:44 static/image/common/back.gif
黑玻璃也可以做,但是据说截止深度不够,至少需要OD4的截止度。
是长春那边的么截止深度具体的是怎么量测的,基本上这边没有这个要求。倒是滤光片会经常有这个定义。求详解
OD*表示截止,根据OD1~OD6,截止带透过率从0.1~0.000001
OD编号 截止带透过率
OD1 =0.1
OD2 =0.01
OD3 =0.001
OD4 =0.0001
OD5 =0.00001
OD6 =0.000001
截止号 截止带
A 400-1100nm
B 300-1200nm
C 200-2000nm
D 400-700nm
E 400-800nm
F 400-1000nm
G 300-900nm
H 500-1000nm
I 800-1000nm
J 700-1200nm
K 200-1100nm
了解了