hngyc 发表于 2003-7-9 09:12:00

请教这是什么膜系   请教高手

在1.5左右的玻璃上镀上580埃的硅（H）、1310硅二氧化硅（L）
即2（HL）
有什么功能

Jesus 发表于 2003-7-9 18:20:00

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一设计波长的
85:15的分光？

likeoe 发表于 2003-7-9 22:17:00

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给出一个0°的T和R的曲线，供参考分析

Jesus 发表于 2003-7-9 23:03:00

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楼上的朋友我的软件计算结果和你不同啊
我还是觉得这是个分光膜

Jesus 发表于 2003-7-9 23:04:00

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[这个贴子最后由Jesus在 2003/07/09 03:07pm 第 1 次编辑]

sorry,图片不太清晰，但反射率带在85%
另外，一楼的朋友，你们镀过Si吗？用什么方法监控呢？
蒸发中有什么需要特别注意的问题吗？
我们试镀过Si,但镀制过程中光控走值无法回到起始点，逐渐衰减
请问有没用过Si的朋友告诉下可能是什么原因呢？
色散？吸收？
又该如何解决相应的控制问题呢？

likeoe 发表于 2003-7-10 02:36:00

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我好象怎么也得不到R＝85的结论（H＝58nm,L=131nm)
镀Si是有点难度的，真空度要高，沉积速率要快

coatingli 发表于 2003-7-10 07:10:00

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首先膜料要预熔彻底，不然很容易喷溅，而且SI在可见光吸收比较大，所以在镀多层是要多装监控片，这样来提高精度，而且好象电子枪要扛的住，束流要大

coatingli 发表于 2003-7-10 07:28:00

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跟Jesus一样的图

hngyc 发表于 2003-7-10 08:50:00

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我用电子束蒸发，光学测控，镀第一层硅和第二层二氧化硅，测控仪走值还能理解，第三第四就不好理解了，我镀硅是单色仪是558纳米，镀二氧化硅用760纳米，请问同行：我可以这样镀吗？如果不能应该如何，请问如何蒸发第三、四层

flybirdzll 发表于 2003-7-10 18:09:00

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我算出来也是一个分光，镀硅前先预镀监控片不就成了吗？

Jesus 发表于 2003-7-11 01:48:00

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to coatinglilikeoe:
请问你们所说的蒸发速率要快，大约多少比较合适？
另外监控片是否需要预镀层？

coatingli 发表于 2003-7-11 05:28:00

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好象不用，只要多装几个监控片，镀几层换一个即可，蒸发束流要大，因为SI蒸发的比较慢，所以要大啊，而且硅很容易喷溅，所以千万要预熔彻底，还有你的坩埚，最好用石墨坩埚，不然你哪个铜坩埚可是永远都被硅吞没掉了，很难搞掉
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