ic5 发表于 2003-7-29 16:33:00

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近期大家对镀膜的设备讨论的很多，现就这个问题请大家设想一下：如果让你组装一台镀膜机，在不考虑价格的情况下，你会选择什么样的设备（适合于镀制DWDM、IR-CUT、AR等1~150层的膜系）：
光控系统：————
晶控系统：————
电子枪：————
离子源：————
真空泵：————
成膜方式：————

Portia 发表于 2003-7-29 17:50:00

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电子枪＋离子辅助沉积＋晶控＋扩散泵或低温泵

cotou 发表于 2003-7-29 19:00:00

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下面引用由Portia在 2003/07/29 09:50am 发表的内容：
电子枪＋离子辅助沉积＋晶控＋扩散泵或低温泵


您的光控打算使用什麼樣的架構？
电子枪 使用那一家的呢？

ic5 发表于 2003-7-29 22:22:00

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对啊，使用哪家的设备，请大家自主配置，再请你说说看！

Portia 发表于 2003-7-30 00:06:00

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Telemark的电子枪，DENTON的冷阴极离子源，CTI的低温泵或VARIAN的扩散泵，Inficon的晶控

很抱歉不知道“光控架构”指的是什么？

cotou 发表于 2003-7-30 18:03:00

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下面引用由Portia在 2003/07/29 04:06pm 发表的内容：
Telemark的电子枪，DENTON的冷阴极离子源，CTI的低温泵或VARIAN的扩散泵，Inficon的晶控
很抱歉不知道“光控架构”指的是什么？

像是使用什麼樣的那一家的光控？還是自已組？

感覺上，您的架構在長時間操作時，可能較不利~~~

Portia 发表于 2003-7-30 18:49:00

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cotou，长时间操作时大概会出现什么问题？

ic5 发表于 2003-7-30 18:50:00

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“DENTON的冷阴极离子源”其优点在哪里，我偏向用IONTECH的RF离子源，其均匀性好、稳定。其他部件表示基本同意！

wazxq 发表于 2003-7-30 20:47:00

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做dwdm和做IR-cut的设备怎么能用同一台呢,

做DWDM,当然是RF离子源,但是RF离子源能大面积轰击嘛，还是APS好。

做不同的产品用不同的设备，不同的配置。

cotou 发表于 2003-7-30 21:40:00

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下面引用由Portia在 2003/07/30 10:49am 发表的内容：
cotou，长时间操作时大概会出现什么问题？


我觉的，离子源的阴极使用有灯丝的架构，
时间长时，可能会有一些问题

ic5 发表于 2003-7-30 22:59:00

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也是，设备的配置需要根据你的产品来决定，我们追求就是其最好的统一！

Portia 发表于 2003-7-31 00:28:00

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是啊，适用的才是最好的！
对了，cotou，现在的离子源一般都是双灯丝结构的，而且可以自动监测灯丝工作状态，并可自动切换，也就是当现用灯丝出问题时离子源自动切换到另外一根灯丝。
当然长期工作后，离子源肯定需要清洗的。
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