基片清洗
我想请教各位大虾，对于生产中基片的清洗工艺方面的问题：1。基片一般采用什么样的清洗液清洗
2。用什么样的工艺程序
我们现在一般用石油醚和去离子水超声清洗，再加上人工擦洗。这样的工艺发现还是不行，因为擦洗总是回事的基底带上静电而吸附尘埃。
谢谢啦
基片清洗
你可以在超静工作台上清洗，洗完后用纯氮气吹干。马上装夹。试试看怎么样。如果不行，咱们再讨论。
基片清洗
你工房的空气清洁度如何呢？至于工艺流程及参数的控制，超声清洗机说明书里一般都有提供吧。基片清洗
感谢两位的答复我是在超净室内进行清洗的，用的也是超净工作台，但是发现效果总不是理想，清洗完在聚光灯下观察总有一些不净之物。我现在正在做这方面的实验，希望寻找合适的工艺，达到既能使基片清洁效果好，又能够免去人工擦洗的步骤。
基片清洗
我和coating有同种感受，我们所用的是日本一家公司生产的专用清洗剂，但效果也不是太好。也需要人工的擦拭，同时擦拭还常有雾气或擦痕。很头痛啊！基片清洗
本公司有成套光学元件清洗方案。并提供清洗容剂，祥细请上网查阅HTTP:www.kamleehang.com
EMAIL:kamleehang@163.net
TEL:0769--336499913066121490(赵生）
基片清洗
如果确实是因为清洗干净后因为静电而吸附灰尘.为什么不买个去静电枪试试呢?
对这种静电吸附的去除效果不错的。
基片清洗
P3洗利隆應用簡介一、清洗產品：各類光學鏡片、鏡頭等。
二、清洗流程：
1超聲波粗洗→2超聲波精洗→3冷浸→4清水冷浸→5 P3清洗→6 P3清洗→7市水→8P3清洗→9純水→10純水→11異丙醇脫水→12異丙醇脫水→13離心脫水器→烘干(成品或鍍膜)
三、清洗用料：
123用三氯乙烯4用純凈水 56用P3洗利隆兌水7用市水 8用P3洗利隆兌水 910用純凈水 112用高純度異丙醇
四、清洗溫度：常溫（室溫）
五、清洗時間：各槽約1分鐘~1.5分鐘(具體時間根據現場操作掌握)
清洗流程圖：
注：在使用時，可根據現場情況，選擇八個清洗槽或十一個清洗槽，其清洗流程相應減少。
基片清洗
P3 洗 利 隆 siliron HS玻 璃 • 鏡 頭 洗 凈 劑
特 點：
■ 洗利隆具有優越的界面活性力，能凈除研磨玻璃或鏡頭後的研磨劑（氧化鈰等），玻璃微粒或油性污垢等，同時也能避免由水的硬度成分所發生的水滴斑。
用 途：
■ 玻璃或鏡頭研磨後的洗凈。
■ 用硬水衝洗玻璃，瓷器或磨光金屬面時，
為了避免水滴斑之發生。
■ 淬火鹽類的洗凈。
■ 除去附著於機械，裝置類的石灰沉積物。
性 質：
外 觀白色粉狀
PH ( 3%， 20℃)10.7
系 數0.54
發 泡稍多
使用方法：
■ 洗凈玻璃、鏡頭：
* 方法：浸漬洗凈，超音波洗凈。
* 濃度：0.3~5%(3~50g/ℓ)
* 溫度：40~80℃
■硬水軟化
* 使用洗利隆時
每德國硬度1◦(DH1◦ = CaO 10mg/ℓ)0.18g/ℓ。
■ 除去淬火鹽
* 方法：煮沸法，流動攪拌法。
* 濃度：2~3%(20~30g/ℓ)
* 溫度：60~80℃
■ 除去石灰沉積物
* 方法：煮沸法，流動攪拌法
* 濃度：1%~5% ( 10~50g /ℓ )
* 溫度：60~80℃
藥液管理：
■ 濃度檢定法
濃度( ﹪)=0.54 ×0.1N鹽酸消耗量 ( ml )
採取檢液5ml，以甲基橙 ( Methyl Orange ) 為指示劑，用0.1N鹼性鹽滴定。由黃色急變為紅橙色時為終點。
■ 管 理必須維持基準濃度。
處理上應注意事項：
■ 洗利隆在高溫時 ( 80℃以上 ) 洗淨鉛玻璃時，稍會浸蝕材質。
■ 洗利隆在冷水中比較難以溶化，使用溫水 (大約40℃ ) 較佳。
■ 藥品粉末或溶液飛入眼睛時，請即用清水沖洗乾凈。碰到皮膚雖不危險，仍然用水沖洗為宜。
■ 洗凈裝置 ( 如水槽等 ) 不得使用銅或鋁合金等非鐵金屬。
包 裝： ( 1 ) 10㎏ / 箱 ( 2 ) 18㎏ / 箱
基片清洗
to zwl:谢谢你。
我们也正在进行基底清洗相关方面方法的试验。你提供的清洗方法很有参考价值。
以后还希望多联系。
Optical_wu@wri.com.cn
基片清洗
谢谢这位大侠提供的方案！你的消息我也收到！谢谢，有合作我一定找你！基片清洗
不知哪里能够买的到洗利隆，价格是多少，谢谢！
页:
[1]
2