hahaha 发表于 2003-11-28 18:25:00

二氧化硅的蚀刻

想得到不同厚度的二氧化硅,据说用氢氟酸同二氧化硅反应不同时间就可得到,可是我不知道具体的反应条件、浓度等等,请各位指点,谢谢:)

freel 发表于 2003-11-29 05:49:00

二氧化硅的蚀刻

氢氟酸:氟化铵=1:30,试试,比例还可以在变变,自己试试吧。
不过用的时候要当心,氢氟酸对人体的伤害很大,弄到身上需要专门的医生才能处理,搞不好要命的。

cdquartz 发表于 2003-11-30 07:33:00

二氧化硅的蚀刻

如果要得到均匀的蚀刻厚度(没有被HF-NH4F腐蚀)是较困难的,这与你选的二氧化硅材质有关,可提供相关信息,请联系13980600120

whiterabbit 发表于 2003-12-21 04:47:00

二氧化硅的蚀刻

不知你说的二氧化硅是不是用CVD或其他镀膜方法获得的,如是,为何不通过控制生长条件如时间,速率来得到不同厚度了? 如果是已经生长好的膜,可用湿法刻蚀或干法刻蚀。湿法比较简单,但要控制好氢氟酸的浓度,以免腐蚀速率太快,建议以1:100(HF:H2O)为参考进行调配。同时要特别注意安全,氢氟酸的酸性不强,但容易渗透皮肤腐蚀骨骼,轻者致残,重者有生命危险。记得以前上安全操作课时,老师一再强调氢氟酸。用干法腐蚀可以较好地控制厚度,但设备要求高,具体参数依所用气源及设备条件而定。

lavajydm 发表于 2003-12-30 08:42:00

二氧化硅的蚀刻

你用的是干法腐蚀!
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