arrow 发表于 2004-4-19 18:08:00

[转帖]离子束辅助镀膜

请教离子束辅助镀膜的原理？

yin99 发表于 2004-4-19 18:44:00

fredsarah 发表于 2004-4-19 21:26:00

<P>e-beam assistant deposition is a method, e-beam bombards the taget, which makes the taget evaporating high energy particles,it will induce deposition film more stable. while plasma generates by electric field or magenetic field.e-beam and plasma are two different methods. i think so.</P>

fulong927 发表于 2004-4-19 22:33:00

离子束轰击表面，可以增加基底的表面能，从而改善膜的结构（更致密），提高附着力；根据所用离子的不同，还可已改善膜的成份。总之好处多多。

fredsarah 发表于 2004-4-19 23:41:00

sorry, i just make a mistake, iron assisted deposition, not e-beam, irom beam (it also could be called plasma), Mr fulong927's explain is very good

track 发表于 2004-4-21 07:51:00

<P>没有离子源镀膜时，由于分子能量较底，当分子接触到基板时失去能量，并阻挡后面分子的前进。从而形成柱状结构。膜层中会有大量间隙存在，在高温或高湿下光谱会偏移。</P><P>有离子源镀膜时，高能离子携带分子，轰击表面，从而改善膜的结构（更致密），提高附着力，提高光谱稳定性。</P>

cjyzq 发表于 2004-4-22 04:48:00

谢谢!!!!!<img src="http://bbs.oecr.com/Skins/default/topicface/face1.gif">
页: [1]
查看完整版本: [转帖]离子束辅助镀膜