yin99 发表于 2004-5-6 05:28:00

material 发表于 2004-5-6 18:17:00

<P>意料中ㄉ事…</P>
<P>兩個解決方式…一、使用ta2o5和sio2，再加層數…不過你會遇到另一個問題…</P>
<P>另一個方法…調整離子槍參數或發射角度…不過效果不大…礙於先天機台特性(我大約知道你用什麼機台)…故無解…</P>
<P>之前我也有相同困擾…不過我解決了…因為我有方法不會使tio2-iad和sio2不會霧化ㄉ方法…也就是不會吸收…哈哈…</P>

sanma 发表于 2004-5-7 03:35:00

主要由于电子枪不好，用的是国产机吧，膜太粗糙，可以蒸慢点试试

wanghd 发表于 2004-5-7 21:03:00

膜層發霧, 如鍍膜膜層的粗糙度有關, 以及鍍完膜以后,不能太快的施加外部空氣

zjtzzy 发表于 2004-5-7 23:29:00

简单改造一下设备即可。

xwse1 发表于 2004-5-22 02:48:00

鍍完膜以后,不能太快的加空氣

lishengmin 发表于 2004-5-22 03:31:00

对，延长降温时间试试

chou5408 发表于 2004-5-30 22:41:00

鍍完膜以后,不能太快的加空氣

yeye 发表于 2004-5-31 03:22:00

<P>二楼的朋友，你能详细说一说吗？</P>

lcoating 发表于 2004-6-5 22:48:00

<P>兩個解決方式…一、使用ta2o5和sio2，再加層數…不過你會遇到另一個問題…</P><P>什么问题？Ta2O5是很稳定的，难道还是与设备有关？</P>

ycxmy 发表于 2004-6-6 05:27:00

同意2楼说法。

zz 发表于 2004-6-7 03:46:00

<P>不同意楼上的,雾化不等于吸收</P>
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查看完整版本: 膜层发雾，怎么办？？