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光学镀膜技术及膜系设计
› 为什么不用Si作光通信用薄膜的高折射率材料
ttl
发表于 2004-5-28 21:59:00
为什么不用Si作光通信用薄膜的高折射率材料
<P>薄膜设计上膜料的折射率相差越大, 膜系越简单.在1200-1700nm范围内, Si的折射率比现在用的高折射材料Ta2O5, TaO2高的多, 为什么不用Si作光通信用薄膜的高折射率材料?</P>
likeoe
发表于 2004-5-29 06:36:00
<P>可能原因:Si不稳定,Si的折射率受氧化程度影响严重,而且Si很容易被氧化。而用于光通信产品的一个重要特征是稳定,化学稳定性要好,温飘要小。</P>
yin99
发表于 2004-5-29 18:12:00
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