fulong927 发表于 2004-8-3 20:10:00

关于离子清洗

离子清洗时，有没有可能将元件表面的加工的缺陷去除或部分去除掉。

zz 发表于 2004-8-3 22:40:00

<P>可以</P>

coatingzhang 发表于 2004-8-8 02:11:00

<P>完全可以的，可以参见上海光机所他们最近的文章</P>

lavajydm 发表于 2004-8-11 04:46:00

肯定是可以的啊！

lcoating 发表于 2004-8-23 05:41:00

<P>要达到去除加工缺陷的程度，基片也一定被打得很毛了，可能增加膜层的缺陷与应力。</P>

vacuum 发表于 2004-9-21 20:09:00

很難吧,要到可以看到去除痕跡,那基材也孔孔洞洞了

nanovac1 发表于 2004-10-18 16:50:00

<P>这是一个很复杂的问题。光学镀膜离子清洗与半导体蚀刻接近。由于离子束方向性强，离子轰击后基本遵守原表面形貌。较难改善形貌，也不会破坏形貌。如果离子源质量较高，则会在一定程度上微消除缺陷。比如美国SKF公司用离子源轰击机械零件表面从而产生表面拓扑结构优化。</P><P>如果是离子辅助镀膜，则离子源改善膜层缺陷的作用是大大的。这方面有数不清的文献。</P>

wazxq 发表于 2004-10-18 21:09:00

表面的加工的缺陷指那些呢
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