fql3310 发表于 2012-1-8 21:50 static/image/common/back.gif
碰到过这个问题, 一般低拆射率材料像SIO2等是不会出现这种问题.高拆射率材料在最外层会出现这个难擦的问题( ...
{:6_144:} 多谢多谢。我的最外层用的MGF2,我也在怀疑用SIO2的话会不会就没有这个问题了,可是现在一直太忙。。{:6_152:} 还没来得及做这个实验呢。。
Jimmy_tang 发表于 2012-1-9 09:16 static/image/common/back.gif
我只用过光学介质膜,所以从来没敢在膜上面试光滑程度,还真不知道这个。
不过我记得大部分的膜系,最后一 ...
{:6_166:}
MGF2不像是会出现这种情况的啊,这是很常用的药材,而且折射率也低。我想应该是别的原因。
Jimmy_tang 发表于 2012-1-9 09:24 static/image/common/back.gif
MGF2不像是会出现这种情况的啊,这是很常用的药材,而且折射率也低。我想应该是别的原因。
那就纠结了,只能再看看其他的原因了。
yibi11 发表于 2012-1-4 09:16 static/image/common/back.gif
弱弱的问一句,Top coat 层是什么意思呢?是不是最外层的意思呢/
没错,是最外面一层,镀防滑的镀膜材料
我也遇到过膜层粗糙的情况, 但感觉离子束溅射镀的膜明显比电子枪光滑。具体原因也没有分析。看到这么多讨论,也算学习了
MGF2不像是会出现这种情况的啊,这是很常用的药材,而且折射率也低。我想应该是别的原因。
MGF2也是不光滑!!!
我们现在也有这情况,用丙酮擦拭后有擦拭印,但用研磨粉擦拭后就很光滑了
请高手指点!!
膜层太粗糙了,SIO2在最外层也会出现这种情况,能不能在工艺上调整改善呢?不增加成本情况下.
是不是可以这样理解 基片是经过抛光处理的 而镀出来的是刚刚生长出来的膜 膜在生长过程中本来就是不均匀生长的 在生长的过程中 缺陷修改工艺 可以一定的改善 但是要做到和原来的基片的光洁度一样 比较困难 不知道说的对不对
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好问题!我最近好像也碰到类似情况。{:6_143:}