离子束辅助镀膜之混淆
看了很多介绍膜料的资料，就膜料和基底附着的问题，现在有点糊涂了，请大家给小弟捋捋思路。问题是这样的：比如膜料ZNS，室温沉积ZNS薄膜牢固度低，但是利用离子源辅助蒸发技术获得的ZNS膜牢固度大大增加。就这样一句话，我想请教几个问题，这里的离子束辅助请问是指镀膜过程中离子源全程开还是只是说镀前开几分钟做清洁基片作用即可呢，离子束镀前开几分钟清洁基底对膜层牢固度真的有那么大吗？
比如镀MGF2在光学玻璃上，温度设定在100度，离子源只是镀前开5分钟。这个效果真的能达到没有离子源清洁基片，而基底温度是280度的效果吗？
请大家讲讲，我没有做过这样的尝试，先问问大家了，主要是现在没有机会和条件去做实验，谢谢 楼主的直觉是正确的，要达到楼主所说的效果，离子源肯定是镀膜过程全程都开起的。镀膜前的离子束轰击，可以起到清洁基板的作用，但要牢固度有质的变化，光是镀之前的轰击可能还没这么大的能耐。 镀前清洁对膜层牢固度起不到多大的作用。那只是个安慰奖面于 不要片面理解这个问题，离子源只是一个工具，能起什么作用在人控制着。镀前开离子源也不光只是清洁，要看你离子能量大小、充气种类。比如在镀mgf2,如果充O2，可以镀出mgo来，以前，我也用离子源把膜层轰击变薄，V增透都能够薄个100NM...镀前也一样，基底性质、能量大小、气体种类、离子源类型，它们组合不同，作用都有差异。比如我国霍尔源，开始用于卫星推动，后来用于光栅刻蚀，后来发现用到镀膜可以赚大钱、再后来，你抄我，我抄你。。。所以离子源作用是非常广泛的 楼主这个问题真是问到我心坎里去了，我也被困扰了N久了，现在只是镀前轰 tfc 发表于 2012-3-29 08:59 static/image/common/back.gif
不要片面理解这个问题，离子源只是一个工具，能起什么作用在人控制着。镀前开离子源也不光只是清洁，要看你 ...
你好，请教一下你说的用离子源把膜层变薄是什么意思呢，怎么理解呢，怎么用离子源可以是膜层变薄呢 {:6_143:} 缘睐汝痴 发表于 2012-3-29 18:55 static/image/common/back.gif
你好，请教一下你说的用离子源把膜层变薄是什么意思呢，怎么理解呢，怎么用离子源可以是膜层变薄呢
呀，你都权威专家了，不懂离子刻蚀？ tfc 发表于 2012-3-31 08:57 static/image/common/back.gif
呀，你都权威专家了，不懂离子刻蚀？
确实不懂哈，请指教，谢谢。
我只是时间在论坛花的时间比较多，镀光学薄膜的了解很少很少哈 把离子放大，象个钢球，打到地面，弹走了，那泥地更结实了，这就是离子辅镀，你力气用大点，钢球砸到地面，溅起泥巴，钢球还弹走了，那地面就薄了一层，就是刻蚀了 比喻经典！{:6_143:} {:6_140:}