为何颗粒状的SIO2镀膜后要去掉块状部分?
问个小白的问题,为何颗粒状的SIO2镀后要把表面已经结块的去掉,然后加上新的膜料?而有的原来就是块状的SIO2却可以一直用呢?为何TIOx之类的材料只在上面重新加材料就行啦? :funk:怎么没人顶啊! 怕受到了污染SiO2是绝缘物质,表面结块以后再打,电子枪电流会受影响。
本身就是块状的SiO2,还有熔融状态的SiO2就不会有这个问题。
wazxq 发表于 2016-1-9 16:13
怕受到了污染
谢谢,那请问为何TI3O5可以不换呢?难道不怕污染?
ouyuu 发表于 2016-1-13 17:26
SiO2是绝缘物质,表面结块以后再打,电子枪电流会受影响。
本身就是块状的SiO2,还有熔融状态的SiO2就不会 ...
谢谢回答,不过还是有点不明白,为何块状或熔融状态的SIO2不会引起电流不稳呢?
怕污染.
怕污染
攒字数。 MorningTech 发表于 2016-1-31 13:20
怕污染.
怕污染
谢谢,那请问为何TI3O5可以不换呢?难道TI3O5不怕污染?
本帖最后由 MorningTech 于 2016-2-4 09:25 编辑
xxx
我目前只是做膜厚控制仪的,呵呵呵呵呵呵。有任何此类问题可以深入交流。
MorningTech 发表于 2016-2-2 12:18
SiO2是升华,用过的材料表面有浮点,这些浮点蒸发功率跟正常比要低很多,易喷。成膜前快速预熔一遍会降低此 ...
非常谢谢您的回答,那请问既然快速预融可以降低浮点喷药,如果不考虑膜料变少,那是否可以不加膜料直接再镀一锅(比如中途破空马上再镀)?
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