wanglan 发表于 2005-1-31 18:05:00

干法刻蚀

有谁知道如何防止干法刻蚀过程中（Ar离子束刻蚀）由于高温而导致光刻胶变质的问题，除了在GaAs片子背面涂硅脂之外。

kfc007 发表于 2005-2-3 19:02:00

Ar＋的轰击也会造成PR的损伤吧。为什么不试试用一层Al或者Cr的作为阻挡层。
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