huweiqian 发表于 2006-3-3 20:43:00

<P>楼上做的是大面积镀膜吧?</P>

楼阁情丝雨 发表于 2006-3-4 05:47:00

<P>我们低欧姆品做的多,3-10ohm,高的都不想做了</P>

wangyonglin1980 发表于 2006-3-4 22:40:00

<P>我也是做透明导电薄膜的!不过用的直流和脉冲复合磁控溅射镀膜设备,而且用了离子源辅助沉积手段,希望大家可以多多交流,共同进步!QQ:34130369</P>
<P>EMAIL:wangyonglin1980@126.com</P>

huweiqian 发表于 2006-3-7 19:50:00

确认了RAS镀膜机可以做出光洁度非常好的薄膜.

飞天狐狸 发表于 2006-3-8 06:46:00

以下是引用nittohai在2005-3-23 10:26:00的发言:可能是磁控溅射薄膜沉积速度比较慢,产能不大。不过其薄膜质量确实非常的好。我认为随着磁控溅射技术的发展,它在光学镀膜上会用的更多。
磁控溅射能很容易实现批量生产的,我想会有很好的发展。

huweiqian 发表于 2006-3-8 20:56:00

而且镀膜速度也有了很大的提高.

hdlhj2218 发表于 2006-6-10 23:43:00

我想问下你说所的磁控溅射镀膜是不是物理真空镀膜,我是物理真空镀膜的新手,现在什么都不知道,但是在过一个多月厂里的机器就来了,到时候他们就叫我自己搞,想麻烦一下有经验的老师傅能不能给我发一份PVD具体的操作原理,我会感激不尽的!!!

williamfengxw 发表于 2006-6-25 23:32:00

<p>有的,而且是在LCD-ITO上很成功的厂家,你真的需要吗?可以联系我</p><p></p>

YAOCS633 发表于 2006-6-26 00:32:00

<p>第10楼的朋友,你是用SHINCRON的RAS磁控溅射镀膜设备吗???</p><p>请回复<a href="mailto:YAOCS633@126.com">YAOCS633@126.com</a></p><p></p>

huweiqian 发表于 2006-6-26 20:49:00

<p>SHINCRON公司开发的RAS系统主要是针对大批量的生产,投资可能比电子枪的高一点,但是效率也比电子枪的高很多。如果你是大批量生产的话,应该还是比较合适的.但其设备对于研发型的单位来说,可能有点浪费;并且做非常的大的片子(大于直径300mm),会比较难处理;切应力相对较大。</p>

huweiqian 发表于 2006-6-26 20:51:00

而APPLIED MULTILAYER公司的CFM设备则比较适合于小批量、多品种的应用。

YAOCS633 发表于 2006-8-26 20:44:00

<p>Dear Mr WRA:</p><p>進來了,也不跟老哥門打聲招呼,</p><p>下次來吳江KEY你.</p><p>哈哈哈哈哈</p>
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