brucelee80 发表于 2005-5-19 06:35:00

SI-AL靶溅射SIO2保护层

SI-AL靶溅射SIO2保护层 会有靶材溅射导致的膜层异物.可判定是有该靶材造成,请问有不更换靶材类型而去除该异物的办法么?我们之前有采用过减少溅射功率的方法,但成效不大.请高人指点!!谢谢

zz 发表于 2005-5-19 17:34:00

异物是??污染了吧/////////////////

风之炫彩 发表于 2005-5-20 05:52:00

欧也是这么想的，反正偶溅射二氧化硅从来没有这样的

brucelee80 发表于 2005-5-28 07:17:00

我们用AC电源，之前用12KW现在用10KW，污染情况有改观。情况有待进一步观察，谢谢两位，请大家继续指点，谢谢，有没有别的可能。
我们每周都保养，清洁度还好，但不排除这种可能，还在持续在实验验证究竟是什么造成的。
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