光控,晶控法监控膜厚的原理
小弟想请教一下光控和晶控法监控膜厚的原理。望各位大侠出手。谢谢! 这个最好自己查一下书籍,一句两句话是说不清的. 采用振荡石英晶体作为电子振荡器中的频率控制器件。膜层厚度的增加,晶体的频率下降,频率的降低与谐振频率的平方及镀层的质量成正比
光控大概是膜层厚度增加后,其透过率或者反射率跟着变化,当到达极值点时其光学厚度为监控波长的1/4,利用这个控制膜厚
晶控法监控膜厚的原理大概为利用石英晶体振动频率与其质量成反比的原理,通过仪表监控频率控制膜厚的. 多谢啦,再请问两种方法,那种精度更高,安装更方便呢? 精度都足够高.
当然晶控安装方便些. 差不多,主要是要有银子,两个好的都很贵,一般两个都需要。你的镀膜机不会什么都没有吧,那还叫做光学镀膜机否。 光控的精度远高于晶控的精度,更为重要的是光控在镀多层膜时后层会对前层的误差做补偿,晶控的精度差一些,如果探头在边上的话误差会更大,电子束光斑的细微改变都会得出不同的结果. 一句两句话是说不清的,自己查一下书籍。光学薄膜的书里都有说明! {:6_143:},学习了 镀薄层的话晶控更准,一些不规则膜系薄层比较多,用晶控的话会比较合适。。 {:1_1:}
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