yakochen 发表于 2005-7-14 03:07:00

版主和高手帮帮诊断一下SiO2的蒸镀情况

如何稳定SiO2的蒸发速率，有无用块状材料的兄弟，给点经验吧。
我遇到一个情况，用块状料材料反射电子打在坩埚边缘，导致束流不能加得太大，
如何解决哦？请问蒸SiO2的电子枪高压一般为多少？俺的Email：yako_chen@163.com

attacker99 发表于 2005-7-14 05:11:00

一般为8KV
电子枪扫描到边缘，考虑调节X。Y方向的偏移量啊，将光斑缩小一点。
调整预熔参数，各个机器不同，应做实验，达到最佳

feiying 发表于 2005-7-14 06:21:00

SiO2束流不用调至很大，蒸镀速率在较低的束流下就已经够用了！

zz 发表于 2005-7-14 16:07:00

二次电子肯定有的,做个屏蔽板将其导走就是.

wazxq 发表于 2005-7-15 01:02:00

束流能到多少，哪的电子枪~~~~~~~~~~~~~~

经济学的故事 发表于 2005-7-18 01:13:00

2楼的朋友说得对，另补充点sio2光斑初时打在坩埚不易聚焦，致使SHUTTER OPEN 后RATE没上升而power猛加，可以延长下蒸镀参数shutter delay time。
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