这个膜是不是很难做????
双面镀膜S1:R≤0.2%@1064nm;T>80%@650nm
45度入射
S2:R≤0.5%@1064nm;T>80%@650nm;R>98%@532nm
45度入射 应该不会太难了
优化一下即可 我问了三个高手,都说很难做。
莫非ZZ兄弟乃神人也??? 算是可以,做起来只能说看工艺水平了. 恩,不是很难做,修正一下次峰
[此贴子已经被作者于2005-9-22 12:42:37编辑过]
<P>s1面还可以,S2面应该难吧,增透膜做到R<0.5%当然没问题,但还要532NM高反的情况做1064NMR<0.5%我想很难,设计上当然没问题,可做起来很难哦</P>
<P>是啊,主要是能不能做的出来,</P>
<P>设计出来并不一定能镀的出来啊</P> <P>这个基片和膜料都是什么啊 那位大大牛能告诉我一下么 还有就是俺刚毕业用TFC怎么修改次峰啊</P> 是要你做还是要你设计呀,基底和膜料选了吗?你哪个学校的?
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