求助:离子辅助蒸发成膜有点,急呀!
近镀YAG晶体,采用的是离子辅助蒸发的方法,牢固度,光学特性都很好,但是发现表面又很多点。不用离子源就会好狠多,不是何原因?我用的时考夫曼源,能量在200V以下,应该不算高。请各位大虾指教。 <P>离子源的问题,可能是离子源打火引起的点子,</P> 打火是会造成这样的现象,不过你也要考虑一下膜料的喷溅,真空室的卫生等 <P>请问楼上,我用的是ZrO2和SiO2,这两种料容易喷溅吗?</P> <P>以上说的有道理,离子源稳定的情况下,应该不会产生点子,我觉得最大可能是机台脏和膜料的点子,ZRO2易产生点子</P> <P>楼主不是说了不用离子源会好很多吗?</P><P>那多是离子源打火了.</P>
<P>可以考虑清洁离子源</P> <P 0cm 0cm 0pt">离子源放电造成的<o:p></o:p></P>
[原创]要做以下斑点分析!!
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M2CTS (Materials Micro-analytical Characterization and Testing Service Laboratory) 是香港城市大学物理与材料科学系下属的科研试验机构。专门从事材料微观测试与性能分析(包括无机材料,有机高分子材料,金属材料,光学材料)以及表面镀膜(PVD,CVD,PIII 等离子注入)。以及其它各种物理和化学性能测试。
应该是离子源把ZrO2的一些小颗粒加速到基片上了,就会出现白点!还可能是真空室内太脏了! {:6_151:} 当时的环境一样么
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