zhuoyi_0225 发表于 2006-5-16 15:17:00

这个膜系怎么设计？给指条明路吧！

我要做毕业论文，但是我原来的专业是半导体器件物理，光学方面不懂
老师给了我一个课题：
１．波长１５５０nm
２．R＜０．２％
就这些，没有其他要求
我没学过薄膜，也没学过物理光学，请各位大虾给指条明路！
小弟先行谢过

zhuoyi_0225 发表于 2006-5-16 15:18:00

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我的邮箱：zhuoyi_0225@163.com

zhuoyi_0225 发表于 2006-5-16 15:22:00

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ps:　要做增透膜，
题目：光纤端面减反射膜的设计与制备

guangang 发表于 2006-5-16 19:37:00

使用材料：H=Ta2O5和L=SiO2,控制波長550nm,膜系初始結構為H3L(高折射材料一個極值，低折射率材料3個極值），然後使用軟件優化(基板材料為BK7,光纖頭的材料需要查一下，實際設計應使用此材料設計），得到結果為:G/0.92H 3.7L/A，即可得到1550nm單點AR的膜系設計，實際加工需要試驗，另外，我手頭上沒有此方面的資料，論文要寫的漂亮一點還需要寫一些理論方面的東西，你自己去網上找找看，再請教論壇上的高手！

wazxq 发表于 2006-5-17 00:55:00

老Guan说的真全，呵呵~~偶补充一点，一般光纤头的折射率就是1.44

zhuoyi_0225 发表于 2006-5-17 14:29:00

<P>谢谢两位!</P>

guangang 发表于 2006-5-18 16:56:00

光這個H3L咱就幹了半年，太熟悉了！嘿嘿。。。。

brico2000 发表于 2006-5-21 23:31:00

<p>我也正在作类似的减反膜.希望能和你交流一下</p><p>QQ19378386</p><p><a href="mailto:EMAIL==brico2000@163.com">EMAIL==brico2000@163.com</a></p><p>小郭</p>

nagayama 发表于 2006-5-22 18:56:00

<p>1)使用材料：H=Ta2O5和L=SiO2,控制波長510nm,,G/H4L/A，即可得到1550nm單點AR的膜系(理论值R＜０．1％)</p><p>2)使用材料：H=TiO2和L=SiO2,控制波長510nm,,G/H4L/A，也可得到1550nm單點AR的膜系(理论值R＜０．1％)</p>

john03062003 发表于 2006-11-6 18:05:00

<p>其实这个挺简单的，找个软件设计模拟一下就出来了。</p>

youfishno 发表于 2006-11-7 00:40:00

<p>楼主是哪个学校呢？</p>

315 发表于 2006-11-8 19:25:00

<p> 是不是cust学院？？</p>
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