xiaoqu01 发表于 2006-9-5 01:55:00

SiO2的磁控溅射

<p>请问哪位大虾能 讲解下关于磁控溅射SiO2时</p><p> 能否加热吗?</p><p> 因为我在溅射的时候,在利用热电偶加热,就无法加热.只能在常温是溅射</p>

hydralisk-1 发表于 2006-9-16 11:39:00

<p>这个。。。不大明白你想表达什么?你是不是想在溅射SIO2时同时加热基板吗?当然可以了,不过有这个必要吗?</p>

zzzz 发表于 2006-9-18 17:47:00

<p>设备有问题吧</p><p>/////////////////////</p>

liuhai5911615 发表于 2006-9-19 04:17:00

我们就是那样做的啊~~~可以加热的~~好像是室内加热吧~~

dinghaiyi 发表于 2006-9-21 00:38:00

可以加热,不过要注意加热的均一性。

零点910 发表于 2006-12-16 00:16:00

加热当然没有问题,在ito镀膜中部就使用二氧化硅作为阻挡层镀制的吗
页: [1]
查看完整版本: SiO2的磁控溅射