抛光纹路困扰
我是论坛新丁,有个棘手的问题想请教各位大侠,请不吝赐教。材料是人工水晶晶片,进行双面平面抛光,抛光粉为CeO2 #8000目,抛光液利用马达循环,上、下盘都贴付有浅槽的黑色抛光皮,抛光时上、下盘各自顺逆时针转动,上盘没有气压控制,靠上盘自身重量。
晶片抛光完成后,用激光干涉仪可以看出晶片满面都有有规则的抛光纹路,请问:这个怎么可以解决?谢谢!
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黑色抛光皮是什么东东?还有你的上盘没有气压装置,靠自身重力挤压对与不同产品来说是不合适的。有可能你的这个片子正好压力过大留下印记 图像是干涉条纹,应该没什么问题 水晶的没做 过 ...................好像是图像 干涉条纹,应该没什么问题 纵向的是干涉纹,横向的好象是抛光纹路了. 1111111222255566666999999 纹路是指擦痕,这哪是擦痕。垂直的是两面干涉的结果,表明左右是楔角方向,哪面薄需要用手指点一会,局部加热,条纹凸向薄端。横向条纹是表面与干涉仪标准面干涉的结果。具体是前后那个,你用油涂破坏一面就知道了。从两面的干涉图可见边部塌边1道圈,高低是低光圈2道。原因是抛光皮软,抛光时间长。 楼上讲的不全对。垂直方向干涉条纹,清晰的,是面形(光圈数)
水平方向干涉条纹,较模糊的,是镜片的平行度,因为平行度的判断与镜片尺寸有关,粗粗估计,20"左右,对双抛而言,是比较差的了,同意LSD的改善方法 受教了,非常感谢!
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