ren619
发表于 2009-4-14 18:15:23
IR 镀膜 ，，SI2O 速度 一般使用多少 啊
SI2O速度 一般使用多少 啊
ren619
发表于 2009-4-15 11:37:08
以前用 0.2nm/s,,现在用0.12nm/s 光洁度 有没有影响啊，IR镀膜，无离子源 ，sio2 ，规格2*2t
tails3582
发表于 2009-4-15 15:27:26
这么慢，有竞争力么？
lunik
发表于 2009-4-15 15:35:36
呵呵。是好慢呀。不知道是否是写错了
ZHJ7239
发表于 2009-4-17 23:57:47
SIO2速度 0.7-0.8nm/S
zzh1011
发表于 2009-4-18 00:45:44
是好慢呀!最小也要有0.5
xiu0214
发表于 2009-4-18 16:50:23
一般設定4-6 但太慢或太快則膜附著力不好
999520
发表于 2009-4-18 19:33:28
0.8到1.0左右，太慢膜层不牢！
ren619
发表于 2009-4-19 10:29:38
不好意思 写错了以前 2nm/s 现在 1.2nm
随风2008
发表于 2009-4-20 20:55:43
1nm/s+离子源
jhxxmlhk
发表于 2009-4-21 14:02:29
25埃/秒，有IAD更好。
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