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发表于 2010-5-13 17:59:01
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锗作为常用的红外光学元件材料,具有折射率高、表面反射损失大以及表面易划伤等特点,因此必须镀制高性能红外增透膜,膜层强度差一直是一个难题,其原因是膜层材料结构疏松、易吸潮。特别是3~5μm和8~12μm双波段兼容范围内能用来增透的材料少,如硒化锌、氟化锶、氟化钡、氟化钙等,这些膜料本身结构松软,镀出的膜层强度差,氟化锶、氟化钡、氟化钙等还易吸潮。在膜料的选择中,我们采用了膜层强度好,但有一定吸收的氟化钇作为红外增透膜的低折射率材料,并采用了离子束辅助沉积技术来增强薄膜的强度。最后还提出了采用脉冲电弧离子镀技术在红外增透膜表面镀制类金刚石膜(DLC)作为保护膜,进一步提高了膜层的强度,获得到光机性能较好的双波段(3~5μm和8~12μm)兼容红外增透膜。 |
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