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[技术] 镀膜前离子源清洁的目的?

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发表于 2010-9-3 13:23:12 | 显示全部楼层 |阅读模式
镀膜前离子源清洁的目的?

点评

这个很好,我喜欢  发表于 2013-8-2 19:15
这个很好,我喜欢  发表于 2013-8-2 19:15
发表于 2010-9-3 22:22:45 | 显示全部楼层
清洗。。。。。
发表于 2010-9-6 12:19:46 | 显示全部楼层
需要喷沙,清洁目的是 离子源清洗产品表面时更易清洗及真空度的影响
发表于 2010-9-6 21:45:13 | 显示全部楼层
1.清洁基底
2.增强膜层的致密性牢固性
发表于 2010-9-8 19:18:51 | 显示全部楼层
过来学习学习!!!!
发表于 2010-10-13 20:20:13 | 显示全部楼层
发表于 2010-10-15 01:35:59 | 显示全部楼层
发表于 2010-10-19 21:14:02 | 显示全部楼层
1 清洁基地表面
2 活化分子提高膜层牢固性
3 提高氧化物折射率
4 刻蚀
发表于 2010-10-21 11:45:59 | 显示全部楼层
1:清洁基片,提高基片表面质量
2:刻蚀、活化基片表面,提高膜层的牢固度
发表于 2010-11-24 11:13:23 | 显示全部楼层
发表于 2010-11-24 15:32:43 | 显示全部楼层
发表于 2010-11-24 16:43:03 | 显示全部楼层
1:清洁基片,提高基片表面质量
2:刻蚀、活化基片表面,提高膜层的牢固度
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