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[其它] 非晶硅TFT(amorphous silicon TFT)

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发表于 2010-12-8 09:53:10 | 显示全部楼层 |阅读模式
 目前,大多数正在量产的液晶面板使用的驱动元件均为非晶硅TFT。非晶硅TFT的开关特性优异,利用非晶硅TFT驱动的液晶面板用途广泛,小至手机和数码相机等小型显示屏,大至超过30英寸的大尺寸液晶电视。

  非晶硅是指结晶构造为非晶质,即硅原子不具有金刚石构造、处于无序排列的状态。利用非晶硅构成TFT通道区域的就是非晶硅TFT。一般情况下,非晶硅TFT的载流子迁移率约为0.5cm2/Vs,阈值电压(Vth)约为2V。开关性能方面,导通电流为数μA,截止电流为10-2A以下。

  TFT自身与半导体MOS FET一样,由栅极、源极和漏极3个端子构成。当栅极电压为约20V的导通状态时,电流由漏极流向源极。处于截止状态(OV或负电位)时不流经电流。根据栅极的构成顺序,又可分为顶栅(Top Gate)型(或正向交叉型、共面型)和底栅(Bottom Gate)型(反向交叉型)等,但工作原理和基本性能没有太大差别。

  非晶硅的制造采用等离子CVD(Chemical Vapor Deposition)技术。可在350℃以下的较低温度下,在大尺寸玻璃基板上形成均匀性出色的薄膜

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