[求助]平面抛光最实用高效的工艺是什么？

xyqy · 发表于 2003-8-1 23:26:00

下面引用由angzh030721在 2003/07/31 09:23am 发表的内容：
那样能达到光洁度20-10以上和光圈0.5以上的精度吗?聚胺脂抛光是怎么回事?

采用聚胺脂材料作为抛光模层材料。

rochon · 发表于 2003-8-1 23:45:00

呵呵，各位DX多介绍介绍经验啊！我没有抛过那么好啊！聚胺脂板高抛容易产生塌边或翘边啊！能不能介绍介绍你的相关转速，压力，盘尺寸！抛光液浓度（比重），抛光液PH，抛光液温度等一些具体的控制呢？

鸵鸟 · 发表于 2003-8-2 04:56:00

光洁度20-10以上和光圈0.5以上的确有点难，就看怎么选敷料了
说其他的蛮，就太多了，这里说不清楚啊

angzh030721 · 发表于 2003-8-2 15:51:00

rochon,说说聚胺脂材料，发邮件给我

ljksjblj · 发表于 2003-8-3 07:41:00

抛光材料：抛光粉，抛光皮等：可以找上海的元成光学，有关辅料和原料可能找到很多，楼上的各位朋友，境界的朋友，试试！做个声明，我不是元成的！仅仅是推荐一下而已！

angzh030721 · 发表于 2003-8-4 17:47:00

ljksjblj ,发个元成的网址过来看看

西归 · 发表于 2003-8-17 04:27:00

聚胺脂材料在抛光硬的材料（K,Bak等）还是可以的，就是对软材料就没办法了，个人看法请指正

xyqy · 发表于 2003-8-17 16:39:00

聚胺脂材料也有不同的型号可供选择，有软有硬的。
抛光一般玻璃的话，PH值在5～7之间比较合适，抛光液浓度高抛可以在3～5％，低抛一般有1～3％就差不多了。

YLJFENG · 发表于 2003-8-19 20:06:00

说实话，我一直怀疑用聚氨酯抛光后，光圈能不能做到0.5，因为用聚氨酯抛光，抛光盘的面形本身就很难做到很高，又怎么可能抛出面形很好的基片呢？
除非就是基片本身很小，或者对面形要求不高。
要得到很好的面形，还是要用沥青盘来抛光。
如果要做到高抛的话，那就可以把抛光分几个环节来实现，分为预抛光和后续抛光。

火龙 · 发表于 2003-8-22 21:15:00

聚胺酯抛出的光洁度无法达到20－10的精度

angzh030721 · 发表于 2003-8-22 23:02:00

这么说来高精度的平面加工，特别是角度和面形、光洁度要求高的时候是不能用聚胺脂了？

younger618 · 发表于 2003-8-23 19:01:00

在粗抛上下工夫,在用双面环抛

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