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光控中比较片的位置

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发表于 2003-4-23 04:46:00 | 显示全部楼层 |阅读模式
在利用上反射光控镀膜时比较片的位置对膜厚仪的走值有多大关系。
发表于 2003-4-23 05:29:00 | 显示全部楼层

光控中比较片的位置

你的是什么光控。是国内的那种极值法。还是国外莱宝的那种光控。如果是后者的话。比较片是根据膜系设计出来的光控曲线得出的。前者的话应没有什么差别。除你的村料有变化
 楼主| 发表于 2003-4-23 15:11:00 | 显示全部楼层

光控中比较片的位置

是南光上反射光控,在两台机器上同一型号的光控但是比较片离工件架的位置有所不同,镀同种膜膜厚仪的走势都不一样。
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发表于 2003-4-23 17:33:00 | 显示全部楼层
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发表于 2003-4-23 17:36:00 | 显示全部楼层

光控中比较片的位置

这跟信号大小有关系吧(影响因素有倍增管高压大小、光源电流大小、光路、膜厚仪调试),还有就是每一台机器所做出来的折射率不一样所以走值就不一样了。
发表于 2003-4-23 18:58:00 | 显示全部楼层

光控中比较片的位置

两台机子当然不一样了。两台机子的工件影响系数不一样。走值当然不一样
发表于 2003-4-24 01:29:00 | 显示全部楼层

光控中比较片的位置

同志你所说的走势不一样是指什么?
难道说镀同种膜,光控的上升和下降的趋势都不一样吗?
我觉得应该不会出现这种现象吧?
 楼主| 发表于 2003-4-24 02:44:00 | 显示全部楼层

光控中比较片的位置

个别膜料的走势不一样(上升和下降)
发表于 2003-4-24 03:02:00 | 显示全部楼层

光控中比较片的位置

走势应该是一样的(对同种膜料),走值可能会不太相同吧。
发表于 2003-4-24 16:54:00 | 显示全部楼层

光控中比较片的位置

我觉得也应该是啊,走势(上升、下降)只与你所镀的膜层的折射率和基底的折射率的高低有关,所以我想应该每种膜料的走势应该是一致的。但最后的走值与你该层膜的折射率有关,所以如果膜层折射率控制不稳定的话,那最后的走值肯定会有所差别的。希望能对你有所帮助。
发表于 2003-4-25 01:43:00 | 显示全部楼层

光控中比较片的位置

只要是基底(监控片)折射率一样,那么光控的走势(上升/下降)也应该是相同的!
发表于 2003-4-25 04:31:00 | 显示全部楼层

光控中比较片的位置

nd=NH或NL当折射率发生变化时。如果是光学厚度是固定的值的话那么物理厚度就会发生变化。如果光学厚度不是定值而折射率是定值。那么有可能或多于或少于NH。这样你的光控走值就变化了。这就是国内光控的缺点。不能用来镀多层膜。而国外,象莱宝的光控就解决了这个问题。它让光学厚度是一个定值而让折射率和物理厚度同时是变量。可以用来镀多层膜。国内的镀膜机很可怜。没有那家单位能做这种光控。
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