紧急请教:ITO

feiyang · 发表于 2003-7-24 00:37:00

兄弟在镀制ITO膜时发现即使原来均匀性比较好的位置,镀制出来的导电膜电阻偏差也很大,膜层颜色也有比较大的差异,工艺重复性不好,我有要求为23+-3的电阻要求,计算和实验出了合适厚度最终镀制后发现电阻出现17-27之间的差值.兄弟们有镀制经验的给我支支着,多谢了,不能按期完成,我小命玩完也!

feiyang · 发表于 2003-7-24 01:02:00

再有就是这种薄膜能不能祛除(化学方法)?欢迎大家发言,也请大家告诉我去什么地方能够看到相关的东西

likeoe · 发表于 2003-7-24 05:59:00

HCl可以除去ITO

coatingli · 发表于 2003-7-24 13:34:00

你如果要几片，我可以给你寄去，我这边有的是

feiyang · 发表于 2003-7-25 07:18:00

寄到不必，我正在试制，就是有些小问题，上面说的，没有解决，还有就是理论计算方面，怎么去计算厚度，宽度，长度，与电极长度的关系

coatingli · 发表于 2003-7-26 11:57:00

其实设备是最主要的，ITO一般都用磁控溅射成膜，均匀比较好控制，且膜层性能也比较稳定优良。一般基片温度控制在350度左右，面阻在23+-3，膜厚大约在700A左右。还有你的SNO2和IN2O3的配比也必须适合

likeoe · 发表于 2003-7-27 06:34:00

磁控溅射还有那么高温度呀，好象不用，我们用热蒸发才要那么高，磁控溅射我想只要常温就可以了，我没磁控溅射做ITO的经验。

coatingli · 发表于 2003-7-27 06:38:00

磁控溅射是可以低温镀膜，但是针对不同材料，不同膜层，温度当然也不会相同，而且ITO膜层性能要求比较高，当然工艺上也必须调整

chugqchugq · 发表于 2003-7-28 06:17:00

锌粉加盐酸可以去除ITO膜

likeoe · 发表于 2003-7-28 08:29:00

加锌粉有什么讲究吗？我平时是不用加的，直接用盐酸泡的。

clearwaterqq · 发表于 2003-7-28 09:49:00

为什么去ITO,通用的方法是盐酸：硝酸：水=4:2:1?
很多标准的工业流程都是这样/
ITO透光率与厚度，面阻关系如图。

feiyang · 发表于 2003-7-29 20:51:00

我用的是热蒸发镀制，温度350度，没有磁溅射的设备，我最近试了几次都是均匀性不好，祛除我用的是盐酸，关于计算方面，谁有高见啊？我没有找到合适的方法去预测计算要镀制的厚度。