光电工程师社区»光电社区 › 光电理论及应用技术 › 光学镀膜技术及膜系设计 › [讨论]预熔材料到什么状态比较合适？

12 / 2 页下一页

返回列表发新帖

查看: 6120|回复: 23

[讨论]预熔材料到什么状态比较合适？

发表于 2004-4-8 17:23:00 | 显示全部楼层 |阅读模式

预熔材料到什么状态比较合适？

回复

使用道具举报

发表于 2004-4-8 17:29:00 | 显示全部楼层

表面熔融，不再放气

回复支持反对

使用道具举报

楼主| 发表于 2004-4-8 18:27:00 | 显示全部楼层

如何观察表面熔融？

表面熔融状态时如果用晶控观察，沉积速率有1A/s吗？

预熔时的电子枪功率一般比蒸镀时小很多吗？

回复支持反对

使用道具举报

发表于 2004-4-8 23:13:00 | 显示全部楼层

预熔时候有1A/s,你的电子枪挡板是不是没遮挡全啊。预熔时应该无蒸发的啊。

功率比蒸发时小是为了避免喷溅和减少材料的蒸发。也可以逐步加大束流，保证材料充分放气。

回复支持反对

使用道具举报

发表于 2004-4-12 00:03:00 | 显示全部楼层

to up, you shold respect religion

回复支持反对

使用道具举报

发表于 2004-4-12 02:20:00 | 显示全部楼层

TiO2-- 预熔电流大于蒸发电流，使材料充分放气。在镀膜时充氧达到平衡可减少吸收。

Ti3O5--同上。

回复支持反对

使用道具举报

发表于 2004-4-12 05:13:00 | 显示全部楼层

预熔使材料充分放气，表面平整，驱除脏东西

回复支持反对

使用道具举报

发表于 2004-4-15 03:09:00 | 显示全部楼层

那要看你预容的甚么药材了,看药材而定,老哥下次把药名写上来啊

回复支持反对

使用道具举报

发表于 2004-4-16 01:04:00 | 显示全部楼层

我顶

回复支持反对

使用道具举报

发表于 2004-4-16 04:51:00 | 显示全部楼层

SiO2--不需要预熔，可直接蒸镀。

ZrO2--表面熔融，不再放气

回复支持反对

使用道具举报

发表于 2004-4-16 06:09:00 | 显示全部楼层

Tio预熔时要多久合适？

通常预熔5分钟，可是蒸镀时仍回溅料，这是为何？

回复支持反对

使用道具举报

发表于 2004-4-17 04:05:00 | 显示全部楼层

Tio预熔时必须充分预熔不分预熔时间长短。

回复支持反对

使用道具举报

12 / 2 页下一页

返回列表发新帖

关注公众号

手机版|搜索|光电工程师社区

相关侵权、举报、投诉及建议等，请发 E-mail：admin@discuz.vip

Powered by Discuz! X5.0 Licensed © 2001-2026 Discuz! Team.|鄂ICP备17021725号-1

在本版发帖

关注公众号

QQ客服返回顶部