镀膜过程中如何控制膜层的微结构？

likeoe

用溅射法(平面磁控溅射)，溅射金属薄膜(其他类型也行)时，很容易柱状结构，通常可用哪些方法控制膜层结构？这个问题可能比较专业，有兴趣的同仁不妨参与讨论。

在做软磁性薄膜时，内部结构对磁性影响很大，尤其是柱状结构，它导致垂直方向的各向异性(在做磁记录薄膜时，需要这个方向的各向异性)，这对需要表面方向各向异性起有害作用。