我想知道有什么简便又比较廉价的方法,实时测量和控制薄膜生长时的膜厚? (我现在是在一般的光学玻璃上镀铝膜)
先谢了!
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我这个大概需要精确到nano级,想在现有真空镀膜机上加装,可否再给点思路?
晶控大概成本多少? 另外,我现在镀的是铝膜,可要是改镀别的贵重点的东西,那测个蒸法速率就费老钱啦,^_* 而且蒸发速率也受环境影响啊.....
好像你不打算采用晶控. 我觉得你是不是可以按你设定的参数沉积薄膜,然后用台阶仪测试一下,这样可以知道大概的蒸法速率.但这也不是实时测量了.
用眼睛看不透光就OK了!
陈旧设备的话就没法或者不容易控制厚度了
可以先求出来沉积速率
镀一次之后,测量一下,然后用时间控制应该足够了。
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