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[讨论]帮忙分析一下Si被氧化的原因

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发表于 2004-5-27 18:33:00 | 显示全部楼层 |阅读模式

镀Si材料,其折射率应为3.5左右,

Si外面镀了层Al2O3保护,大概几十到上百A左右

从镀完后结果看,可能Si被氧化了,折射率大概掉到2.4附近

请各位大大帮忙分析下产生氧化的原因是什么?

Si材料本身被氧化?或镀的Al2O3太薄未起到保护作用?

预熔时除气产生的氧应该不足以把Si氧化吧。

请各位谈谈镀Si需注意的一些要点吧!

发表于 2004-5-28 01:06:00 | 显示全部楼层
真空度多少?
发表于 2004-5-28 04:48:00 | 显示全部楼层

是什么镀膜方式

发表于 2004-5-28 06:06:00 | 显示全部楼层
你镀Al2O3时要充氧的吧?问题就在这儿了。
发表于 2004-5-28 09:55:00 | 显示全部楼层

在大气中,Si大概在400℃以上开始严重氧化。

 楼主| 发表于 2004-5-28 17:49:00 | 显示全部楼层

并未充氧,温度为180度

真空度倒是不高,只有1~3*10-3Pa,

不清楚这个真空度会氧化吗?

发表于 2004-5-28 17:58:00 | 显示全部楼层

当然会氧化了!

 楼主| 发表于 2004-5-28 22:47:00 | 显示全部楼层

那有啥办法解决吗?

发表于 2004-5-29 05:33:00 | 显示全部楼层

回复:(vietti)那有啥办法解决吗?

若镀岀不久折射率就为2.4,那么是否应当考虑成膜时已是硅的化合物?因为镀上保护膜后氧化不会那么快。不成熟意见仅供参考。
发表于 2004-5-29 18:25:00 | 显示全部楼层
提高蒸速试试看。
发表于 2004-5-30 06:24:00 | 显示全部楼层

看来没多少人镀过SI。

1*10-3PA会氧化吗??

不镀保护膜看看,并提高真空

 楼主| 发表于 2004-5-31 16:58:00 | 显示全部楼层

设备所限,真空度上不去呀

从光控监控时看正在成膜时应该还没氧化

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