[讨论]帮忙分析一下Si被氧化的原因

coatingli · 发表于 2004-5-31 17:53:00

根据以前的经验，与楼主的工艺环境类似，觉得Si不是很容易氧化，我当时做的折射率推算在3.2~3.3之间。不清楚的地方很多，不知道你怎么推算出Si的折射率降到了2.4，能否将具体膜系及镀后测得的数据列出来大家分析。

zz · 发表于 2004-6-1 05:37:00

楼上说的没错,SI的吸收较大,计算错的话会得出错误结果.按你的工艺3.0应该没问题

vietti · 发表于 2004-6-4 16:52:00

又镀了层Si测了一下，Si并没氧化，大概为3.5，看来正如楼上二位所说，是我计算错误。

我刚刚才做这方面工作，不太了解。采用的是Al2O3和Si的1/4波堆。只是简单地用特征矩阵算了一下，没考虑入射角度，SP分量和吸收。

是因为没考虑吸收而计算错误吗？该怎么算呢？

请指点

zz · 发表于 2004-6-4 23:27:00

3.5那可接近理论值了,个人认为不大可能,因其吸收较大.不过难能可贵,你竟然使用笔算,佩服.

yh15430 · 发表于 2004-6-5 00:05:00

硅在波长小于1100nm吸收较大，当波长远大于1100nm时吸收就较小。

yh15430 · 发表于 2004-6-5 00:05:00

硅在波长小于1100nm吸收较大，当波长远大于1100nm时吸收就较小。

zhoucheng · 发表于 2004-6-5 02:04:00

不会氧化,镀膜工艺不成熟,计算方法不当

zz · 发表于 2004-6-7 03:52:00

不会氧化,那为啥镀不出理论曲线呢?

可否请教楼上有啥好的工艺?先谢!

vietti · 发表于 2004-6-7 16:52:00

好像Si的消光系数和其他介质材料比并不高，吸收大小与消光系数有何关系？

吸收较大是大到什么程度？对反射率影响有多大？

vietti · 发表于 2004-6-7 17:11:00

因条件所限，无法知道所镀膜的实际厚度多少，所以才根据反射谱来反推。

第一层Al2O3光学厚度为1/4λ（经过反复实验后可以控制）,第二层Si光学厚度未知

镀完后反射谱为开口向下的抛物线，顶点恰好在λ处，是否可证明Si的光学厚度是1/4λ的奇数倍？

zz · 发表于 2004-6-8 00:22:00

SI的K值较一般介质高了不止一个数量级

有可能,那你镀了多少厚度?

回复：（zz）3.5那可接近理论值了,个人认为不大可能,因...