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氧化物电子束镀膜补氧的方法

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发表于 2004-6-21 17:25:00 | 显示全部楼层 |阅读模式
氧化物电子镀膜需要补氧,请问各位专家补氧的方法:补氧的位置是坩锅位好,还是直接补在离子源进行辅助镀好呢?
发表于 2004-6-21 17:29:00 | 显示全部楼层

最好是两者结合。单纯用坩埚位补氧,就算是膜料完全氧化沉积在基片上,在充氩的离子源轰击时仍然会造成膜层氧化物失氧。

发表于 2004-6-23 18:18:00 | 显示全部楼层
不同位置N差不了多少
发表于 2004-6-22 04:47:00 | 显示全部楼层
离子氧是最佳的.具体在那个位置,那不好说了.
发表于 2004-6-23 07:23:00 | 显示全部楼层

1.離子氧活性好, 所以結合性佳

2.通氧管接於坩鍋附近,易造成電子槍鎢絲氧化 ,簡短使用壽命

3.不同的通氧位置,藥材反應可能會不太一樣, 得到的N值有會不同

发表于 2004-6-23 16:24:00 | 显示全部楼层
以下是引用kuan在2004-6-22 23:23:44的发言:

2.通氧管接於坩鍋附近,易造成電子槍鎢絲氧化 ,簡短使用壽命

有直接结果吗?看在坩埚附近的氧的扩散是如何进行的,有可能还增加寿命呢,因为从氧在真空室中的总浓度来考虑,它是降低的。
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