[讨论]如何镀2nm的薄膜？

vietti · 发表于 2004-6-23 17:29:00

请教

镀2个nm厚的膜，该怎么控制呢？

蒸发速率多大合适？预熔时是否都会形成2nm的膜？

2个nm的厚度，用什么手段可以检测的出来吗？

zz · 发表于 2004-6-23 18:05:00

那看是啥膜料了？

vietti · 发表于 2004-6-24 00:14:00

比如Al2O3

zz · 发表于 2004-6-24 06:02:00

例如采用0.2NM的速率,可镀10S,可能采用溅射设备好控.没啥好测的,单层太薄,除非你有特殊用途

Jesus · 发表于 2004-6-25 19:25:00

20A厚度的薄膜太薄了吧?

你肯定这个厚度已经成膜了?而不是岛状的结构?

likeoe · 发表于 2004-6-25 23:22:00

老兄，什么用途啊，做2nm，用电子枪就免了，一眨眼可能就不只2nm了，用离子溅射或磁控溅射有可能的。

zz · 发表于 2004-6-26 00:45:00

岛状结构难道就不是薄膜了吗?

Jesus · 发表于 2004-6-26 17:16:00

岛状结构的薄膜不能实现薄膜的设计光学特性,所以我想已经失去了其设计的功能.

zz · 发表于 2004-6-26 19:20:00

是吗？？？？？

vietti · 发表于 2004-6-28 17:54:00

用途嘛，主要是保护作用，并非光学作用

Jesus · 发表于 2004-6-28 18:01:00

哦,保护作用,那为什么不镀的稍微厚一点点呢?总觉得20A的厚度实在太薄.

zz · 发表于 2004-6-28 19:31:00

楼主，你是否又想保护，又想不影响光学性能呢？可你的设计有问题，2nm的保护膜没啥用的。