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Kaufman离子源和RF离子源都是栅格式,即由两层或三层栅格抽取离子形成离子束。其共同特点是离子流密度和离子能级可以独立调节,离子能量带宽集中,这类离子源一般用于光学镀膜中。Kaufman离子源的等离子体由其腔体内的阴极产生,而阴极是损耗件。RF离子源的等离子体有RF耦合而成,无损耗件。栅格式离子源的一大缺点是离子束流量有一个极限值。 霍尔(其实应叫终端霍尔)离子源不用栅格。但需要加一个中和源(一般是钨丝)。其离子能量带宽较分散,但粒子流两正比于器体流量。与霍尔离子源同类的还有一种阳极层离子源,一般多用于大型工件镀膜。 RF离子源不仅仅日本能造,美国,德国,前苏联都能造。 我们上海纳微真空技术公司销售以上所有离子源。 |