膜料预熔问题

缘睐汝痴 · 发表于 2011-9-26 18:35:18

大家好，求教几个膜料预熔问题：
1.HFO2镀膜过程中容易打坑，大家是怎么解决的呢，有适当调节光斑大小吗
2.AL2O3预熔过程中，我发现真空度变化很大啊，我是5.0E-3开始熔的，在熔的过程中真空度会走到1.0E-2，熔H4的时候也差不多是这种情况，放气太大了，不知道正常不，像这种情况，是不是要熔时间长点呢，时间长了我又担心浪费太多膜料，大家是怎么做的呢
3.H4放气大的话，充氧气都没有什么作用了，那能充多少氧气呢
4.MGF2预熔我个人认为很重要，可是我总是把握不好那个镀，最近我们的玻璃一直有点子，我们的速率是7A/S，不知道是不是速率太大了，大家预熔MGF2是怎么操作的呢
谢谢大家了

xiao2011 · 发表于 2011-9-26 20:49:15

AL2O3和H4放气大是正常的，MGF27A/S速率不大啊，我们都是用8,用20A/S都有

xiao2011 · 发表于 2011-9-26 20:50:05

有点子是膜料没熔好，

monggugi · 发表于 2011-9-27 15:28:45

也可以换一家的膜料试一下吗

captainH · 发表于 2011-9-27 16:28:14

5.0E-3开始融料太迟了。
看来你多半都没有融透

Jimmy_tang · 发表于 2011-9-27 17:01:27

是说要预熔充分，对吧？

royyang · 发表于 2012-6-17 17:07:34

学习

zhesky · 发表于 2012-6-18 22:02:55

求真相

wdydede · 发表于 2012-6-20 12:22:37

qs2784 · 发表于 2012-6-21 22:04:24

5.0E-02就可以预熔了吧

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