光刻胶光学性质的光谱椭偏测量方法研究

测试 · 发表于 2011-10-8 09:04:34

光刻胶光学性质的光谱椭偏测量方法研究.pdf (222.59 KB, 下载次数: 4)

利用相调制型光谱椭偏仪研究了光刻胶光学常数的测量方法，针对测量过程中光刻胶曝光控制优化了测量方案和仪器参数。对常见的$9912正型光刻胶，给出了曝光前后275～650nm波段的光学常数。并采用动态椭偏法测量了所需波长下曝光前的光学常数。实验结果表明：该测量方法适用于光刻胶在紫外一可见．红外宽波段的光学性质研究，在光刻模拟、新型光刻胶材料研制及其光学性质表征等领域有重要实用价值。

SRxiaoming · 发表于 2012-6-18 13:48:10

THX！！！！！！！

guochengzheng · 发表于 2013-9-1 00:20:51

谢谢楼主分享

[资料] 光刻胶光学性质的光谱椭偏测量方法研究

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