[求助]鍍膜后出現霧面﹐該如何解決

夏天雨 · 发表于 2004-8-19 00:34:00

請問﹐鍍膜后晶片會出現霧面﹐該怎么解決﹖

開始以為是沒有清洗干淨﹐后來試驗清洗完畢后﹐立馬開始鍍﹐結果還是一樣﹖

冥界的蝎子 · 发表于 2004-8-19 00:54:00

你是操作人员吗？？

chz321 · 发表于 2004-8-19 06:35:00

会不会是潮解了，或是温度太高了，试试降低温度看看，

夏天雨 · 发表于 2004-8-19 21:53:00

謝謝樓上的意見﹐可是試過之后還是有霧面產生。

zz · 发表于 2004-8-20 00:34:00

啥基片？镀啥膜？

nittohai · 发表于 2004-8-21 18:25:00

真空度多少？

dzhhao · 发表于 2004-8-25 23:01:00

如果是比较软的基底，加热温度不要太高！比如方解石，云母等。可以采用逐渐冷却的方法。比如设定5度/分钟

xiaohe · 发表于 2004-9-10 23:46:00

试用冷镀的方法，应该能解决问题，热镀转冷镀真空室加配深冷设备就行了，不用加热那么高的温度了，还可以捕集扩散泵的返油．实施看吧．交流０５５１５３２９１９５何

dar · 发表于 2004-11-10 01:23:00

没错,降低镀膜时的温度就好啦…………

snebur · 发表于 2005-1-17 22:28:00

镀的什莫材料？在什莫类型的基片上！蒸镀条件是什莫？请讲清楚以便分析原因！！！！

xiaohe · 发表于 2005-4-21 22:50:00

冷镀和热镀的区别在于加热温度,有些基材必须用冷镀因为不可以加热,而可热镀的材料就可冷镀,加热的最大目的主要是去处表面吸附的成分,而冷镀时也可加热,同时低温捕集也能达到效果.

snebur · 发表于 2005-4-22 06:07:00

从如下几方面考虑：envaporation rate，vacuum pressure， heater temperature，strengthen Ion soure n