降低二极管泵浦原照射在工作物质上的能量密度，对激光输出有什么影响

wuqi13476100 · 发表于 2012-3-27 16:10:31

降低二极管照射在工作物质上的能量密度，保持泵浦功率不变，对激光输出有什么影响。最近在做二极管泵浦端泵ND：YVO4激光器，工作物质膜层经常损坏，所以想降低能量密度试试。

nknight23 · 发表于 2012-3-27 17:58:15

有影响，膜层损坏是不是你的泵浦光斑太小或者打在了端面上？

wuqi13476100 · 发表于 2012-3-28 12:00:26

nknight23 发表于 2012-3-27 17:58
有影响，膜层损坏是不是你的泵浦光斑太小或者打在了端面上？

可能是聚焦后打在工作物质上光斑上小了，导致工作物质上膜层损伤（已用的最大膜层损伤阈值的镀膜），所以想加大聚焦镜焦距后，加大入射到光斑上光斑大小，从而降低能量密度，就是想知道，这样做对出射激光功率，光速质量，光斑大小等有什么影响

wuqi13476100 · 发表于 2012-3-28 12:01:21

可能是聚焦后打在工作物质上光斑上小了，导致工作物质上膜层损伤（已用的最大膜层损伤阈值的镀膜），所以想加大聚焦镜焦距后，加大入射到工作物质上光斑大小，从而降低能量密度，就是想知道，这样做对出射激光功率，光速质量，光斑大小等有什么影响

nknight23 · 发表于 2012-3-28 13:13:31

经耦合系统后的光斑多大？打在晶体什么位置？基模振荡光斑呢？

wuqi13476100 · 发表于 2012-3-28 22:05:44

晶体是个方形的，打在晶体中间，我刚接这个项目，被人喊去解决晶体膜层损耗问题，所以其他具体参数都不是很清楚。只是想先定性了解下，增大打在工作物质上光斑大小，对系统稳定，出射光光功率，出射光斑大小激光M2值等基本评价参数有什么影响。

nknight23 · 发表于 2012-3-29 13:13:26

这个，泵浦光斑和基模光斑大小有匹配关系，即模式匹配。你可以搜相关的论文。所以具体得看你现有的端泵设计，不好简单的说影响。“打在晶体中间”，是在晶体正中间，还是晶体中什么位置。前后位置变化也会导致功率和模式的变化。感觉你现在是在碰运气的试。

wuqi13476100 · 发表于 2012-3-29 14:42:19

是打在晶体正中间，并可以得到稳定的高斯出射原斑，增强了下超净间洁净度，工作物质膜层没怎么出现损坏了，但是工作晶体本身出现裂痕，损坏。

wuqi13476100 · 发表于 2012-3-29 16:12:35

自己感觉可能是热应力过大造成的，请问有什么好的解决方案

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