[求助]关于离子辅助

vietti · 发表于 2004-8-31 17:18:00

离子辅助镀完一层膜后，厚度控制的刚好

可镀下一层时因要预熔，预熔时离子会把上一层

的膜打掉一些吧？

该怎么控制呢？

bohr123 · 发表于 2004-9-2 07:19:00

不错，有当班

zz · 发表于 2004-8-31 17:47:00

你那是啥源啊！何况你也用不着开那么大的能量吧。

guangang · 发表于 2004-8-31 18:26:00

你的離子源沒有擋板麼？

裝一個擋板不就OK了？

Leesnow · 发表于 2004-8-31 18:31:00

对啊,有挡板啊,而且可以控制打开和关闭的时间的啊!

guangang · 发表于 2004-8-31 23:27:00

那你预熔的时候把挡板关上，镀的时候再打开就没有关系了么？坩埚挡板和离子源挡板同时打开，基本上没有什么影响，除非你的离子源有问题，或者是能量太大了！！