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[讨论]沉积速率的大小对镀膜质量的影响

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发表于 2004-9-1 17:25:00 | 显示全部楼层 |阅读模式

其他条件相同的情况下

发表于 2004-9-5 01:05:00 | 显示全部楼层
镀膜速度太快,对膜层的颜色会有影响.
发表于 2004-9-1 17:44:00 | 显示全部楼层

沉积速率大,达到基地的物质来不及扩散,会使膜变得疏松,影响膜的致密性

(新手,不知道说得对不对,望指教)

发表于 2004-9-1 17:47:00 | 显示全部楼层

若沉积速率大,

材料的折射率会有变化,可能影响光性;

材料容易喷溅,导致膜面容易出现点子;

薄膜的均匀性受影响;

发表于 2004-9-1 19:47:00 | 显示全部楼层
以下是引用cjjiang在2004-9-1 9:44:10的发言:

沉积速率大,达到基地的物质来不及扩散,会使膜变得疏松,影响膜的致密性

(新手,不知道说得对不对,望指教)

最好有实验数据表明沉积速率与致密性的关系。我也可以说,沉积速率大了,到达基底的物质来不及散开,会使膜变得致密,呵呵

发表于 2004-9-2 06:41:00 | 显示全部楼层
不能这么笼统的说吧,例如你的设备有离子源,那么相应的参数就会有一定的蒸发速率,如果不同呢,那么首先折射率会改变,然后有可能引起吸收,如果再大的话,膜的晶状结构就会发生变化(我只是知道,还没有见过啊^_^)......不过,有的介质就不会有那么大的变化,如sio2!如果你的设备上面没有离子源,那么....我也不知道了,谁知道上来说说啊!
发表于 2004-9-2 08:19:00 | 显示全部楼层
不能这么笼统的说吧,例如你的设备有离子源,那么相应的参数就会有一定的蒸发速率,如果不同呢,那么首先折射率会改变,然后有可能引起吸收,如果再大的话,膜的晶状结构就会发生变化(我只是知道,还没有见过啊^_^)......不过,有的介质就不会有那么大的变化,如sio2!如果你的设备上面没有离子源,那么....我也不知道了,谁知道上来说说啊! ----------------------------------------------

怎么总对自已没有信心,我觉得分析很有道理,速率绝对有好处---效率高(能多赚钱)有些厂家就采用这方法生产IR-CUT,搞得市场混乱,价格狂跌!现在这段时间大家最好少买摄像头,价实货不真,差得要命,不如各位是否有同感?上面问题在杭州光会的光盘中有些论述。

发表于 2004-9-4 18:56:00 | 显示全部楼层
对很多镀膜物质来说,高的蒸发速度能提高物质的折射率,能增加膜的致密度。不过均匀性会受到影响。
 楼主| 发表于 2004-9-6 18:40:00 | 显示全部楼层

有的说增加致密性,有的说降低致密性。

到底是怎样呢?

继续讨论........

发表于 2004-9-6 21:40:00 | 显示全部楼层

理论上速率高是可以增加膜料的折射率的,不同的材料增加的程度是不一样的!真空度高也能提高折射率,还有温度越高折射率越高.

镀膜的三个基本要素:基底温度,真空度,蒸发速率(T.P,V)

发表于 2004-9-7 01:03:00 | 显示全部楼层
镀膜的三个基本要素:基底温度,真空度,蒸发速率(T.P,V)
发表于 2004-9-21 18:43:00 | 显示全部楼层
速率太快容易造成膜層結構鬆散
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