请教，薄膜湿热试验为什么会膜裂？

geyingji · 发表于 2012-10-24 16:46:02

zhenxing 发表于 2012-10-24 11:36
這個問題的重點是因為基板是有色玻璃。換普通玻璃用同樣的鍍膜制程就沒問題了！

也有基板是普通玻璃的，介质滤光片，就是裂的不是很厉害，也没那么快，差不多做1个星期有的裂纹

zhenxing · 发表于 2012-10-24 16:52:09

geyingji 发表于 2012-10-24 16:46
也有基板是普通玻璃的，介质滤光片，就是裂的不是很厉害，也没那么快，差不多做1个星期有的裂纹

那是因為介質Filter沒有IAD的原因才會裂的，如果普通玻璃用同樣的制程呢？
樓主供貨商的設備太差了，若有需求量大的產品可以找我們代工。

geyingji · 发表于 2012-10-25 11:56:18

zhenxing 发表于 2012-10-24 16:52
那是因為介質Filter沒有IAD的原因才會裂的，如果普通玻璃用同樣的制程呢？
樓主供貨商的設備太差了，若有 ...

介质滤光片是另外一个国外的公司买的，做一两天湿热试验没啥事，时间长了也不行，我是把很多不同厂子镀的放到一起做的试验，只有一两片没有裂，以前看膜裂都是说应力啥的，感觉潮湿对薄膜的影响挺大的，这方面资料也没找到，就是不太明白为什么潮湿会使膜裂呢，什么原理呢

ouyuu · 发表于 2012-10-25 22:41:46

用离子源会好些。
一个是膜层更致密，另外一个颜色更透明。
镀SIO2的时候，是离子形式沉积的，会发生一些不均匀的情况，
这时候补些氧会有好处。

geyingji · 发表于 2012-10-26 16:16:17

ouyuu 发表于 2012-10-25 22:41
用离子源会好些。
一个是膜层更致密，另外一个颜色更透明。
镀SIO2的时候，是离子形式沉积的，会发生一些 ...

我没太听明白，你说的“镀sio2的时候，是离子形式沉积的，会发生一些不均匀”是说离子溅射镀膜不均匀么？我看好多说蒸发镀氧化物容易失氧然后才充的氧，然后也做离子辅助的工作气体。假如用离子溅射充氩气可不可以？对sio2有没有影响？

geyingji · 发表于 2012-10-26 16:28:49

ps:先谢过各位了，给了很多好的建议和改善方法~~先歇个周末再说，哈哈，周末愉快~

李昌瑞 · 发表于 2012-10-26 18:29:02

哈哈,楼上最经典,退货.膜裂一般都是吸潮后出现的状态,用离子源镀的基本没这个问题,当然也要看你用的什么离子源还有功率的问题,SIO2冲氧不够也有这个问题,MGF2的基底温度不够也会造成膜硬度不够.

ouyuu · 发表于 2012-10-26 21:07:40

geyingji 发表于 2012-10-26 16:16
我没太听明白，你说的“镀sio2的时候，是离子形式沉积的，会发生一些不均匀”是说离子溅射镀膜不均匀么？ ...

镀膜其实是一种气相沉积。
镀膜时并不存在SIO2分子，
而是SI离子和O离子的形式蒸发上去的，
因为电场作用，难免会发生一些沉积不均匀的情况———
有的地方SI多一些，有的地方O多一些
（多余的O变成气体跑掉了，所以不会带来问题，但SI过多颜色会发黑）

用O2做气源，用离子辅助镀膜，就是避免发生SI过多的情况，
离子源的另一个好处是膜更致密。

离子源有两个指标，阳极电流和阳极电压，
电流和离子密度成正比，电压和离子速度成正比。

geyingji · 发表于 2012-10-29 12:02:35

ouyuu 发表于 2012-10-26 21:07
镀膜其实是一种气相沉积。
镀膜时并不存在SIO2分子，
而是SI离子和O离子的形式蒸发上去的，

啊，为什么没有sio2分子啊，不是加热让sio2升华么，我理解的是太热的话sio2会分解成sio或者si和o2，但是不能全是离子吧（就拿普通的电子束蒸发来说）

光学111 · 发表于 2012-11-16 19:05:34

找我们做吧，15659874190

zhaoyagang · 发表于 2012-11-19 20:54:19

1、镀氟化镁，基底温度应在250~300度，且镀膜时真空度要高；
2、sio2镀膜出现脱模，与加工工艺条件关系较大。

chao_li0622 · 发表于 2012-11-20 18:43:38

是啊，不是自己镀的，怎么找原因啊

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