请教：AL2O3 折射率的控制

DANNY · 发表于 2004-9-5 22:40:00

AL2O3 理论折射率是1.6687（632nm），我镀出来膜折射率总是在1.60以下，我的目标是1.64以上！有什么办法

cjyzq · 发表于 2004-9-6 04:12:00

提高蒸发速率、使用离子源。

showashinku · 发表于 2004-9-6 23:42:00

氧气少一些会提高折射率

deveitu · 发表于 2004-9-9 23:04:00

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DANNY · 发表于 2004-9-9 23:05:00

加热 T=300°C，真空度单位是PA

zz · 发表于 2004-9-6 16:04:00

计算方法是否正确

guangang · 发表于 2004-9-6 18:18:00

氧氣充少一些！！

flyinlove79111 · 发表于 2004-9-7 01:10:00

一般的机子上可以做到１.６２，没有离子源的情况下１．６４可能做不到吧

DANNY · 发表于 2004-9-8 16:57:00

氧气少一些会提高折射率！那么不加氧气会怎么样！因为我想提高真空度（6*10E-4）

zz · 发表于 2004-9-9 16:27:00

适当充O2，你那单位是PA还是TOR？

yakochen · 发表于 2004-9-9 18:45:00

基片能加热吗？这样也能提高折射率，不需离子源。

DANNY · 发表于 2004-9-14 23:09:00

谢谢你们！我已经得到我要的结果了！

deveitu deveitu 当前离线积分 7116 IP卡狗仔卡头像被屏蔽	发表于 2004-9-9 23:04:00 \| 显示全部楼层提示: 作者被禁止或删除内容自动屏蔽
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