半导体UVLED曝光

蓝谱里克

半导体UVLED曝光方法，适于利用一台UVLED曝光机对晶片进行曝光。这种半导体UVLED曝光机至少是由用来承载晶片的曝光镜头以及液体循环装置构成，其中液体循环装置在曝光期间为曝光镜头与晶片之间供应液体。其特征在于，半导体UVLED曝光前，利用至少一对准光源对承载台进行一对准操作，其中对准光源具有一特定波长，使液体挥发时对对准光源的影响降至最低，以防止液体影响前述对准操作。

半导体UVLED曝光

半导体UVLED曝光机的原理以及特点：
1、省电节能，减低成本，半导体UVLED曝光机的LED发光达到某种亮度时所消耗的能量只有15瓦左右，而传统的灯达到同样亮度要消耗1500瓦的能量，即使与UV卤素灯相比，也可节省80%的能源。
2、LED灯的发光不是红外线加热，发放的热力较低，因而不会影响那些容易受热而变形的介质(像泡沫塑料板、箔膜、PVC等)在印刷过程中的传送。这样，介质的应用范围就更加广泛了。 　　
3、反应时间快，LED灯不需要预热，可以开机后立即印刷，生产力得以提高。 　　
4、安全性高，稳定性高，UV喷墨印刷机的印刷质量跟UV干燥固化的过程有莫大关系，LED灯的稳定性使得输出的能量是可预见的、稳定的，因此印刷效果同样是可预见的、稳定的。

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半导体UVLED曝光机的LED发光达到某种亮度时所消耗的能量只有15瓦左右，而传统的灯达到同样亮度要消耗1500瓦的能量，即使与UV卤素灯相比，也可节省80%的能源。