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[讨论] hall源与电子枪蒸镀膜料(升华),极易出现干扰,导致晶控报警失效,如何解决?

 火... [复制链接]
发表于 2014-1-17 20:33:23 | 显示全部楼层 |阅读模式
如题,用电子枪蒸发升华类膜料,如ZnS,所用hall源与电子枪容易发生干扰,具体表现在,电子束斑不稳定,当其跳动较大时,导致晶控报警失效(假失效,life值很高,新换亦如此),此现象不是一直发生,但一炉膜系总会发生一两次。()
如单开离子源时,晶控无此现象;
如单开电子枪时,也一样无此现象!
按离子源厂家说法,对两者进行了屏蔽处理,略有改善,但未能根治。


不知谁还遇到此类问题,如何彻底解决的?
换kafuman源?(方向性好,离子与电子不易发生干扰)
发表于 2014-1-19 16:19:03 | 显示全部楼层
这个问题要关注一下。里面实际含了两个问题,一是电子枪与离子源之间干扰,二是晶振失效。
一、电子束斑的位置由高压、偏转及扫描磁场决定。
1. 高压此时是否稳定?
2. 偏转及扫描电路受到干扰? 电子枪扫描控制器的接地线拉到对外接地的铜排上,不要拧在电控柜上了事。
3. 离子源会产生附加磁场影响? 如果做磁屏蔽的话,要用导磁材料,如软铁。放个铁皮在二者之间间试试。
二、晶振失效,是在束斑跳动大时候才发生? 晶振失效的原因比较多。
要排除电干扰的可能性。再将离子源、晶控仪的接地线分别拉到接线铜排上,加粗接地线铜排到接地桩之间的电缆,接地电阻再确认。或是某根电缆接线不太好,对地有轻微放电。做清洁保养。

点评

新版XDM-3K增加了晶振失效停镀,短时间内恢复后自动重新开始成膜功能。  发表于 2014-1-19 16:22
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发表于 2014-1-20 10:43:29 | 显示全部楼层
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发表于 2014-2-5 22:30:44 | 显示全部楼层
楼主解决了吗???
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发表于 2014-2-6 09:50:12 | 显示全部楼层
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